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喜讯:全球首个全硅激光器由复旦大学研制成功

发布时间:2018-01-17 点击数:365

1月17日,复旦大学宣布由该院光科学与工程系吴翔教授、陆明教授和光源与照明工程系张树宇副教授合作团队,基于所研发的高增益硅纳米晶薄膜,成功研制出全硅激光器,这是全球第一个全硅激光器。该研究成果近日在Science Bulletin科学杂志以快报形式报道。
据悉集成硅光电子结合了当今两大支柱产业:微电子产业和光电子产业的精华,预计将给成像、检测、通信、传感、照明、显示等众多科学应用领域带来技术革命。


(a) DFB全硅激光器的光泵浦和发光示意图;插图:DFB激光器件的实物照片。


(b)样品的PL谱随泵浦功率的变化;背景:DFB结构的横截面SEM图像。


为了大幅增强硅的光增益,复旦大学吴翔教授、陆明教授和张树宇副教授合作团队,首先借鉴并发展了一种高密度硅纳米晶薄膜生长技术,由此显著提高了硅发光层的发光强度;之后,为克服通常氢钝化方法无法充分饱和悬挂键缺陷这一问题,他们发展了一种新型的高压低温氢钝化方法,使得硅发光层的光增益一举达到通常III-V族激光材料(如GaAs、InP等)的水平;在此基础上,他们设计和制备了相应的分布反馈式(DFB)谐振腔,最终成功获得光泵浦DFB型全硅激光器。光泵浦全硅激光器的研制成功,也为下一步研制电泵浦全硅激光器提供了参考依据。

硅激光器是实现集成硅光电子的关键。由于硅的间接带隙结构特性,目前,硅的光增益较之通常的III-V族激光材料,仍有1-2个数量级的差距。为避开这个瓶颈,国际上将成熟的III-V族激光器制备在硅基片上,成为一种混合的硅基激光器。而以硅自身作为增益介质的全硅激光器可以更好地匹配现有硅工艺,大幅提升器件的可靠性,其研制既是科学技术上的挑战,也是集成硅光电子所必需。

实验发现,随着高压低温氢钝化的进行,硅发光层的光增益持续增强,最终达到GaAs、InP的水平。实验中还观察到了满足激光产生条件的所有判据:阈值效应、谱线大幅收窄、偏振效应以及定向发射。激射峰值为770nm波长。之后他们又重复制备了四个相同结构的激光器。由于各发光层的有效折射率略有差异,所得到的四个激射峰值波长分布在760-770nm范围,半峰宽(FWHM)由激射前的约120nm缩小到激射后的7nm。该项目由国家自然科学基金(No. 51472051, 61275178, 61378080, 61705042)和上海市扬帆计划(16YF1400700)等提供支持。

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